¿La nueva tecnología de Canon compite con ASML en la fabricación de chips? El gigante japonés, conocido por sus cámaras e impresoras, ha revelado una solución innovadora destinada a impulsar la producción de componentes semiconductores avanzados a nuevas alturas.
Una respuesta audaz al dominio de ASML
La reciente presentación de Canon de su sistema de ‘litografía de nanoimpresión’ es un movimiento estratégico para desafiar el dominio de la empresa holandesa ASML, un actor clave en el sector de las máquinas de litografía de ultravioleta extrema (EUV). La tecnología de ASML es fundamental para la fabricación de chips de alta gama, como los que se encuentran en los últimos iPhones de Apple. Esto ha situado la maquinaria de la empresa en el centro de la rivalidad tecnológica entre Estados Unidos y China.
El nuevo sistema de Canon: un salto cuántico en la fabricación de chips
Se dice que el recién anunciado sistema FPA-1200NZ2C de Canon es capaz de producir semiconductores con un proceso de 5 nm y de reducir hasta 2 nm. Esto supera al chip A17 Pro utilizado en el iPhone 15 Pro y Pro Max de Apple, que es un semiconductor de 3 nm. La medida en nanómetros se refiere al tamaño de las características de un chip, siendo cifras más pequeñas las que permiten más características y, por lo tanto, un rendimiento superior.
Implicaciones para el panorama tecnológico global
El gobierno holandés ha restringido a ASML la exportación de sus máquinas de litografía EUV a China, un país que aún no ha recibido ninguna unidad. Esto se debe al papel fundamental de las máquinas en la producción de chips semiconductores avanzados. Con la afirmación de Canon de que su nueva máquina puede producir semiconductores equivalentes a 2 nm, es probable que esté sujeta a un mayor escrutinio.
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